HORIBA堀場 光柵/掩模粒子檢測系統(tǒng)

HORIBA堀場制作所 光柵/掩模粒子檢測系統(tǒng)PD10-EX

HORIBA堀場制作所 光柵/掩模粒子檢測系統(tǒng)PD10-EX

HORIBA堀場制作所 光柵/掩模粒子檢測系統(tǒng)PD10-EX

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用一臺(tái)機(jī)器完成顆粒檢測和去除，提高半導(dǎo)體制造工藝的效率和良率

自1984年推出以來，半導(dǎo)體光刻工藝不可或缺的PD系列粒子檢測系統(tǒng)不斷發(fā)展，以響應(yīng)客戶的需求，今年是其40周年紀(jì)念日。

新產(chǎn)品“PD10- ex”在流行的常規(guī)型號(hào)“PD10”的基礎(chǔ)上，增加了顆粒去除功能，實(shí)現(xiàn)了一臺(tái)設(shè)備即可完成檢測和去除。

此外，我們已經(jīng)開發(fā)了一個(gè)內(nèi)部單元，支持自動(dòng)光柵/掩模傳輸，有助于更有效的半導(dǎo)體制造工藝和更高的產(chǎn)量。

半導(dǎo)體行業(yè)的分析、測量和控制需求正在以****的速度變化，變得更加復(fù)雜和多樣化。我們正在努力擴(kuò)展PD10-EX的功能，使其能夠進(jìn)行顆粒組成的一站式分析和膜※1膜厚度的測量，并且我們將在未來繼續(xù)呈現(xiàn)新的可能性。

1. 通過整合顆粒檢測和去除過程，提高工作效率和產(chǎn)量

我們的“RP-1”顆粒去除劑的功能，其顆粒去除率超過95%※2，已與“PD10”集成。

這使得自動(dòng)檢測和去除顆粒成為可能。它還配備了一個(gè)多端口，允許同時(shí)設(shè)置兩個(gè)包含網(wǎng)格/掩模的病例，允許連續(xù)的顆粒檢測和去除。

2. 通過與自動(dòng)輸送設(shè)備連接，促進(jìn)制造過程中的自動(dòng)化和勞動(dòng)力節(jié)約

我們開發(fā)了自己的EFEM（設(shè)備前端模塊：一個(gè)在OHT※3和需要與OHT系統(tǒng)接口的粒子檢測系統(tǒng)之間傳輸光柵/掩模的單元），用于半導(dǎo)體制造工廠。我們靈活地響應(yīng)客戶的規(guī)格，并有助于自動(dòng)化和節(jié)省勞動(dòng)力-這對于提高生產(chǎn)力，消除勞動(dòng)力短缺和簡化制造區(qū)域至關(guān)重要。

※1防塵膜，防止顆粒附著在網(wǎng)線/口罩的圖案表面

※2內(nèi)部測試結(jié)果，玻璃表面附著5μm玻璃珠。效果可能因使用和條件而異。

※3架空葫蘆運(yùn)輸：一種自動(dòng)運(yùn)輸裝置，使被運(yùn)輸物體處于懸掛狀態(tài)，在安裝在吊頂上的軌道上運(yùn)行